低溫等離子處理設(shè)備一般可分為真空低溫等離子處理設(shè)備和常壓低溫等離子處理設(shè)備兩大類。
一、真空低溫等離子體處理設(shè)備
 真空低溫等離子體處理設(shè)備是一種在低氣壓工作環(huán)境下，根據(jù)所需處理工件的處理目的不同，可通入各種與工件表面發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)元素氣氛，并饋入不同頻率、不同功率的電壓使這些氣氛被激發(fā)電離，這些被電離的、帶有很高能量的電子和粒子對工件表面進(jìn)行反應(yīng)，達(dá)到對工件表面清洗、活化、刻蝕和沉積的作用，這些帶正負(fù)粒子的離子化氣體由于其正負(fù)電荷總量平衡，所以總體上呈電中性，由這種等離子體與工件表面反應(yīng)后所產(chǎn)生的、漂浮在腔體內(nèi)的新的粒子將被為維持腔體內(nèi)真空度而不斷運(yùn)轉(zhuǎn)的真空泵抽出真空腔體，也即：低溫等離子體處理過程中產(chǎn)生的微觀污染物會被真空泵不斷抽出腔體。

真空低溫等離子處理設(shè)備的特點：
  1、高能量的低溫等離子體處理。
  2、電中性、無靜電的處理空間。
  3、根據(jù)不同的氣氛組合，可實現(xiàn)多樣化的工藝效果。
  4、對工件結(jié)構(gòu)無特殊要求，能做到全方位3D處理。
  5、清洗功能可真正實現(xiàn)無殘留，徹底超凈化。

二、常壓低溫等離子體處理設(shè)備
    常壓低溫等離子體處理設(shè)備是一種在常壓大氣工作環(huán)境下，產(chǎn)生各種等離子焰體的設(shè)備。阿爾銘晟用國外最先進(jìn)的技術(shù)，根據(jù)各個行業(yè)的不同用途、不同處理材料和工件外形，開發(fā)設(shè)計制造了諸如：射流低溫等離子體處理設(shè)備、DBD介質(zhì)阻擋放電等離子處理設(shè)備、滑動電弧低溫等離子體處理設(shè)備等等，以適應(yīng)各種不同的工藝需求，詳見阿爾銘晟網(wǎng)站中的“產(chǎn)品展示”欄所示。

常壓低溫等離子處理設(shè)備的特點：
  1、去除了復(fù)雜的真空系統(tǒng)，價格較低，使用靈活，作業(yè)便捷。       
  2、適用于在線式生產(chǎn)現(xiàn)場，便于實現(xiàn)自動化作業(yè)，容易與客戶原有的自動化流水線配套。
  3、具表面清洗、活化、粗化功能，不適合需要做沉積、接枝的表面處理。
  4、維護(hù)簡單，方便。